珠海高新区：全国首台晶圆级“等离子多驱解离刻蚀设备”发布
“中国芯”再添利器！
5月23日，
珠�：愀裎⒌缱幼氨赣邢薰�
（以下简称“恒格微电子”）
在珠海高新区举行
全国首台晶圆级
“等离子多驱解离刻蚀设备”发布会。
该设备的成功面世，
标志着我国
在高端半导体制造核心装备领域
实现重大技术突破，
为芯片制造国产化替代
注入强劲动能。
01.自主创新破垄断，核心技术获突破
恒格微电子历时三年多技术攻关，成功研发出全国首台晶圆级“等离子多驱解离刻蚀设备”。
该设备突破了多项“卡脖子”技术难题，具备高效率、高均匀性、高兼容性的特点，可广泛应用于集成电路、第三代半导体及先进封装领域，适配8英寸至12英寸晶圆制造需求。
其核心工艺指标达到国际先进水平，填补了国内高端刻蚀设备空白，将显著降低晶圆厂对进口设备的依赖，助力半导体产业链安全升级。
珠海高新区党工委委员、管委会副主任薛飞在致辞中表示，恒格微电子从PCB设备细分领域龙头成长为半导体装备新锐，充分展现了珠海硬科技企业的创新韧性与担当，希望恒格微电子持续深耕技术研发，为粤港澳大湾区打造半导体产业高地贡献力量。
02.产学研协同发力，产业链共筑生态
发布会现�。愀裎⒌缱雍偷缱颖∧び爰善骷氐闶笛槭仪┦�深度产学研合作协议，双方将围绕半导体设备核心技术研发、专业人才培养等领域开展战略合作。
电子科技大学代表表示，“此次合作将加速高�？蒲谐晒氲继遄氨讣际醯峁┲橇χС�。”
与此同时，恒格微电子与国内显示面板龙头企业达成工艺合作开发协议。
双方将针对显示面板制造中的刻蚀工艺需求开展联合研发，推动国产等离子刻蚀设备在显示领域的规模化应用，加速面板行业核心装备国产替代进程；与三叠纪公司达成战略合作，双方将聚焦TGV-等离子刻蚀设备的迭代研发与产业化应用，为国产装备贡献力量。
03.聚焦创新基因，共话产业未来
在主题沙龙环节，恒格微电子总经理李志强与研发团队负责人、客户代表及投资机构代表围绕产品研发历程、市场前景及行业趋势展开深度对话。
李志强表示，等离子多驱解离技术是恒格微电子十年磨一剑的成果，目前已通过头部晶圆厂验证，并进入量产交付阶段。
未来将持续加大研发投入，打造覆盖刻蚀、薄膜沉积等全环节的半导体装备矩阵。
04.从珠海启航，向全球进发
恒格微电子成立于2005年，深耕等离子技术领域近二十年，其PCB等离子清洗设备市场份额稳居国内前列。
近年来，恒格微电子瞄准半导体装备赛道，聚焦刻蚀设备核心技术研发，逐步构建起覆盖研发、制造、服务的全产业链能力。此次发布的新品，是其向高端半导体装备领域转型的关键一步。
发布会后，与会嘉宾前往恒格微电子制造基地参观，近距离观摩设备产线及工艺演示。
未来，恒格微电子将以技术创新为驱动，携手产业链伙伴，助力中国半导体装备迈向高端化、国际化。
长期以来，珠海高新区把集成电路产业作为引领区域创新发展的主导产业，瞄准高端半导体设计、设备制造、晶圆代工和先进封装等领域强链、延链、补链，推动半导体与集成电路产业集群式发展，已初步形成“设计—制造—封装—测试”全产业链体系。
半导体与集成电路企业数量和经济规模位居珠海市首位，2024年实现规上经济规模达106.62亿元，近5年年均增长率超过20%，已成为珠海集成电路产业发展的主阵地。
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文章来源：珠海高新招商（版权归原作者所有，如有侵权，请联系删除）
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